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高真空管式加熱爐的結構設計特點

  來源:www.ciniciler.com
  高真空管式加熱爐是一款多用途高真空、氣氛熱處理實驗設備,相比普通的真空加熱爐來說,具有更高的真空度,那么其在設計中具有怎樣的特點呢?
  高真空管式爐機組由管式加熱爐、真空系統組成,主要應用于氣氛保護燒結、材料還原、材料真空脫氣,精密材料真空熱處理、時效處理、CVD實驗等一些需要高真空或氣氛保護環境下的熱處理實驗。
  高真空管式爐有封閉式和智能型兩種,我們先來了解下封閉式加熱系統的相關設計特點。
  1、加熱功率:4Kw。
  2、加 熱 區:300mm。
  3、恒 溫 區:120mm(±1.5℃)
  4、加熱區數:單溫區。
  5、極限溫度:1400℃。
  6、使用溫度:≤1300℃。
  7、升溫速率: 1000℃以內:≤10℃/min,1000℃以上:≤5℃/min(建議)。
  8、降溫速率:1000℃以上≤10℃/min。
  9、加熱元件:1000型硅鉬棒。
  10、爐   膛:收縮率小,導熱系數低,保溫效果好,耐用節能。

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